
一.基本信息
1. 博士,sm调教
人才特区讲师
2. 研究领域:宽禁带半导体器件、二维半导体器件
3. Email: [email protected]
二.个人简介
陈金鑫,理学博士。2020年博士毕业于复旦大学微电子与固体电子学专业,随后在华南理工大学、新加坡南洋理工大学从事博士后科研工作。2025年7月加入sm调教
,担任讲师。研究方向包括宽禁带半导体氧化镓器件及集成技术,二维材料晶体管及集成电路,人工突触器件等。相关工作已发表SCI论文十余篇,主持过国家级科研项目(青年科学基金)1项,参与过国家级科研项目4项。
三.教育经历
2016.9-2020.8:复旦大学微电子与固体电子学专业,博士
2013.9-2016.6:上海师范大学凝聚态物理专业,硕士
2009.9-2013.6:南京师范大学物理学专业,学士
四.职业经历
2025.7-至今:sm调教
,讲师
2020.11-2025.5:华南理工大学微电子学院,博士后
2022.5-2023.5:新加坡南洋理工大学EEE学院,客座研究员(国家公派)
五.讲授课程
《半导体器件》
六.研究成果
近期发表的期刊论文
[1] Jin-Xin Chen, et al. “Influence of ultralow temperature on quasi-2-D β-Ga2O3 field-effect transistors.” IEEE Transactions on Electron Devices 71(7), 4233-4239 (2024).
[2] Jin-Xin Chen, et al. “Ohmic contact formation to β-Ga2O3 nanosheet transistors with Ar-containing plasma treatment.” Electronics 13(16), 3181 (2024).
[3] Jin-Xin Chen, et al. “Fabrication of a Nb-doped β-Ga2O3 nanobelt field-effect transistor and its low-temperature behavior.” ACS Applied Materials & Interfaces 12, 8437-8445 (2020)
[4] Jin-Xin Chen, et al. “High-energy x-ray radiation effects on the exfoliated quasi-two-dimensional β-Ga2O3 nanoflake field-effect transistors.” Nanotechnology 31, 345206 (2020).
[5] Jin-Xin Chen, et al. “Investigation of the mechanism for Ohmic contact formation in Ti/Al/Ni/Au contacts to β-Ga2O3 nanobelt field-effect transistors.” ACS Applied Materials & Interfaces 11, 32127-32134 (2019).
[6] Jin-Xin Chen, et al. “Band alignment of AlN/β-Ga2O3 heterojunction interface measured by x-ray photoelectron spectroscopy.” Applied Physics Letters 112, 261602 (2018).
[7] Yong Sun, Jinxin Chen, et al. “The photoemission study of InSb/HfO2 stacks upon N2 rapid thermal annealing.” Vacuum 168, 108815 (2019).
七.科研服务
近年主持及主要参与的科研项目
(1)国家自然科学基金委员会,青年科学基金项目,62104072,局域场增强的β-Ga2O3纳米带日盲紫外探测器的关键技术与设计理论研究,2022-01-01至2023-12-31,结题,主持;
(2)国家自然科学基金委员会,面上项目,62374060,基于复合晶型金属氧化物的柔性TFT关键技术研究,2024-01-01至2027-12-31,在研,参与;
(3)国家自然科学基金委员会,面上项目,62174058,面向柔性智能传感微系统的TFT集成电路关键技术与设计理论研究,2022-01-01至2025-12-31,在研,参与;
(4)国家自然科学基金委员会,面上项目,61874034,晶圆级二维金属硫化物薄膜生长机制、缺陷调控及晶体管性能研究,2019-01-01至2022-12-31,结题,参与;
(5)国家自然科学基金委员会,青年科学基金项目,11804055,原子层沉积高激光损伤阈值的Al2O3/HfO2/SiO2双叠层紫外反射膜研究,2019-01-01至2021-12-31,结题,参与
八.发明专利
(1)“一种 4H-碳化硅复合贵金属薄膜及其制备方法”,发明人:刘锋、陈金鑫、唐玉龙、赵晓静、陈陆懿、石旺舟;201510450528.3
(2)“一种结型场效应晶体管及其制备方法和应用”,发明人:陈金鑫、李斌;202410123847.2;
(3)“一种 1T’-MoTe2/Ga2O3 肖特基型栅场效应晶体管及其制备方法”,发明人:陈金鑫、李斌;202410053675.6;
(4)“一种Al局域场增强的 β-Ga2O3 纳米带光电晶体管及其制备方法”,发明人:陈金鑫、李斌;202410030336.6